Recent, informațiile despre progresul Chinei în domeniul tehnologiilor critice pentru industria semiconductorilor au devenit tot mai precise. Potrivit surselor din industrie, Beijingul a reușit să construiască un prototip de echipament lithografia EUV (Extreme Ultraviolet Lithography) în Shenzhen, representând un avans semnificativ în încercarea de a obține independență tehnologică în sectorul fabricării cipurilor avansate. Acest progres sugerează o schimbare în echilibrul de putere global în domeniul semiconductorilor, domeniu esențial pentru numeroase tehnologii moderne, de la inteligența artificială până la sisteme militare.

Echipamentele EUV sunt folosite pentru a produce circuite semi-conductoare incredibil de fine, esențiale pentru creșterea performanței și eficienței cipurilor. Acestea utilizează fascicule de lumină ultravioletă extremă pentru a „desena” circuite cu dimensiuni de miile de ori mai mici decât un fir de păr, facilitând fabricarea de cipuri pentru AI și electronice sofisticate. Până acum, tehnologia EUV a fost dominată de companii occidentale, iar Statele Unite au instituit restricții dure asupra accesului Chinei la aceste echipamente și componente critice. Aceste măsuri au încetinit gradual îmbunătățirea infrastructurii locale în domeniu, însă au încurajat China să investească în cercetare și dezvoltare internă.

Prototipul construit în Shenzhen a fost realizat prin reverse-engineering, folosind piese recuperate și achiziționate din piețe secundare, inclusiv de la echipamente mai vechi. Construcția este majoră, ocupând aproape un etaj de fabrică și indicând o abordare discretă și rapidă. În pofida progresului, transformarea acestui prototip în o linie de producție funcțională de cipuri avansate va necesita depășirea unor obstacole legate de tehnologia opticii de precizie și de componente ultra-specializate. Centrarea eforturilor chineze va fi, probabil, asupra obținerii unui echilibru între tehnologie și costuri, folosind piese din surse alternative.

Guvernul chinez a stabilit ca termen pentru producție de cipuri funcționale pe baza acestui echipament anul 2028, însă surse apropiate indică 2030 ca un termen mai realist. Această estimare ar plasa China în avans față de așteptările inițiale, care vânau un decalaj de peste un deceniu. Dacă echipamentul va trece cu succes de faza de testare și va ajunge la fabricarea de cipuri credibile, impactul va fi major atât din punct de vedere industrial, cât și geopolitic, apropiind China de o poziție mai autonomă în sectorul semiconductorilor.

În final, aceste evoluții evidențiază necesitatea monitorizării continue a progreselor tehnologice în domeniul EUV și semiconductorilor. Rămâne de urmărit cum va evolua implementarea și răspunsul internațional la aceste inițiative, în contextul tensiunilor și restricțiilor existente.